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涡轮分子泵_旋片真空泵_---质谱检漏仪

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        伯东企业(上海)有限公司目前是德国PFEIFFER 在中国的华东和华南总代理商,在上海,深圳等---重要区域都设有我们直接销售全系列PFEIFFER产品的销售部门,并且在上海以及深圳设有售后服务中心,可为广大客户提供PFEIFFER全系列产品的维护及相关服务工作。
伯东企业(上海)有限公司售后服务中心采用全套德国进口维修工具、校正仪器以及检测设备;100% 使用 PFEIFFER 原厂进口零件以及德国技术支持;拥有完全的拆解,维修,校正能力;---通过德国原厂专业培训与认证,提供24小时在线服务。
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信息标题   上海伯东参展 SemiCon China 2023 上海半导体展

SemiCon China 2023 伯东展位【E3,3369】
伯东企业(上海)有限公司作为德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 inTEST 高低温冲击热流仪, 美国 KRi 离子源, 美国 HVA 高真空闸阀, 等国际进口真空品牌的代理商, 参展 SemiCo
信息标题   考夫曼射频离子源RFICP220溅射沉积 ZnNi 合金薄膜
沈阳某大学课题组采用伯东 kri 考夫曼射频离子源 rfcip220 射频磁控溅射沉积方法制备了不同成分的 znni 合金薄膜, 并研究了真空热处理对其成分及表面形貌的影响.


采用 kri 考夫曼射频离子源 rfcip220 磁控溅射沉积的 znni 合金薄膜, 使合金成分均匀, 使薄膜致密, 并且附着性好.

信息标题   考夫曼射频离子源RFICP140溅射沉积半导体 IGZO薄膜
河北某大学实验室在研究 igzo 薄膜的特性试验中采用伯东 kri 考夫曼射频离子源 rficp140 作为溅射源, 溅射沉积半导体 igzo 薄膜.







试验采用射频(rf)磁控溅射沉积方法, 在室温不同压强下在石英玻璃衬底上制备出高透光率与较好电学性质的透明氧化物半导体 ingaz
信息标题   考夫曼射频离子源RFICP380 镀制红外器件 ZnS 薄膜
某半导体厂商为了提高红外器件 zns 薄膜厚度均匀性, 采用 kri 考夫曼射频离子源 rficp380 辅助磁控溅射沉积设备镀制红外器件 zns 薄膜, 并采用动态沉积的方法--样品台离心旋转的方式, 补偿或---圆形磁控靶在正对的基片上沿径向的溅射沉积不均匀分布.


kri 射频离子源 rficp380 技术参数:
 射
信息标题   KRI考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积钛金属薄膜
钛金属具有许多优异的性能, 例如低密度/ 高熔点/ 耐腐蚀/ 无磁性和硅基衬底结合力好/ 具有形状记忆和吸氢特性等, 因此对于磁控溅射沉积钛薄膜的研究有很多.


上海某大学研究室在多层钛膜做微观结构的研究中采用 kri 考夫曼射频离子源 rfcip220 溅射沉积钛薄膜做加热电路提高器件温度,从而提高光波导器件中硅材料的折射率. <
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