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伯东企业(上海)有限公司
HVA 高真空闸阀 高真空插板阀 11000 系列
Gel Pak 芯片包装盒 BD 用于化合物半导体产业
伯东 KRI考夫曼离子源KDC 10用于IBF离子束抛光工艺
KRI霍尔离子源成功用于天文望远镜片离子辅助镀膜工艺IBAD
KRI霍尔离子源控制器成功替换取代Veeco 控制器
伯东KRI霍尔离子源 EH400 HC用于离子刻蚀 IBE
KRI霍尔离子源EH 3000HC用于辅助天文望远镜镜片镀膜
KRI霍尔离子源EH 4200辅助镀膜IBAD用于PC预清洁
伯东 KRI霍尔离子源在样品清洗前处理中的应用
射频离子源RFICP 220用于透明导电薄膜及性能研究试验
聚焦射频离子源RFICP 220辅助磁控溅射镀制3D 玻璃膜
KRI 离子源用于离子束溅射镀制 Ge 纳米薄膜的研究
双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜
射频离子源RFICP 380辅助离子束溅射镀制SiO_2薄膜
伯东考夫曼离子源 KDC 160 辅助镀制 HfO2 薄膜
射频离子源rficp 380持续轰击tin薄膜获得更***性能
KRI聚焦型射频离子源RFICP380用于制备超薄TEM样品
KRI 射频离子源用于碳化硅微纳结构表面刻蚀
KRI考夫曼离子源 KDC 100 辅助镀制五金连接件铬膜
KRI 聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜
伯东KRI离子源用于大口径光学元件KDP晶体的溅射与刻蚀
伯东KRI无栅霍尔离子源eH 3000辅助镀制高质量光学薄膜
伯东考夫曼离子源KDC160辅助沉积高铝超硬涂层增强切削性能
伯东 kri 考夫曼射频离子源用于纯钛表面***化改性的研究
考夫曼射频离子源RFICP 220用于钟表行业镀制纳米薄膜
离子蚀刻机10IBE用于提升碳化硅微光学元件的品质
Hakuto离子蚀刻机7.5IBE 用于刻蚀硅微机械陀螺芯片
Hakuto全自动离子刻蚀机MEL3100 用于刻蚀薄膜磁盘
Hakuto离子蚀刻机20IBE-J应用于硬盘 GMR 磁头
离子蚀刻机20IBE-C 用于蚀刻 FSD 车载 AI 芯片
全自动离子刻蚀机 MEL 3100 应用于集成电路制造中刻蚀
离子蚀刻机20IBE-J用于陶瓷板Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀
Hakuto离子蚀刻机20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅
hakuto离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究
hakuto 离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究
hakuto离子刻蚀机10IBE 刻蚀衍射光学元件提高均匀度
hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板
hakuto 离子刻蚀机 20IBE 刻蚀滤波器钽酸锂晶片
离子刻蚀机 10IBE 用于多晶黑硅损伤去除与钝化性能研究
hakuto离子刻蚀机 7.5IBE 用于芯片制造中厚铝刻蚀
Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 用于半导体晶圆刻蚀
伯东离子刻蚀机 IBE 用于金铜镍银铂等材料微米级刻蚀
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于铁电薄膜研究
Hakuto离子蚀刻机20IBE-C 用于蚀刻 KDP 晶体
Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100用于蚀刻覆铜板
Hakuto离子蚀刻机20IBE-J 用于光学器件精密加工
Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于芯片去层
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物
上海伯东英国原子力显微镜
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双级旋片真空泵 Pascal C1 系列
双级旋片真空泵 Pascal C2 系列
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防爆罗茨泵 OktaLine ATEX
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上海伯东参展 SemiCon China 2023 上海半导体展
考夫曼射频离子源RFICP220溅射沉积 ZnNi 合金薄膜
考夫曼射频离子源RFICP140溅射沉积半导体 IGZO薄膜
考夫曼射频离子源RFICP380 镀制红外器件 ZnS 薄膜
KRI考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积钛金属薄膜
考夫曼射频离子源RFICP380成功用于多靶磁控溅射镀膜机
KRI考夫曼射频离子源RFICP220溅射沉积 MoN 薄膜
美国霍尔离子源 EH 3000用于蒸镀天文望远镜镜片全反射膜
KRI 射频离子源成功用于辅助制备 MoS2 自润滑涂层
kri 离子源辅助蒸发沉积镀铝膜、 改变铝膜结构及耐腐蚀性
镀膜制品掉膜的主要原因是
射频离子源 RFICP 380成功用于辅助蒸镀TiO2薄膜
伯东射频离子源和分子泵组用于氧化物溅射镀膜设备
KRI 射频离子源在光学加工中具有高的去除率和好的稳定性
美国 KRI 离子源用于辅助沉积非晶硅红外光学薄膜
考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高性能红外增透膜
KRI 霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜
伯东 KRI 考夫曼射频离子源在 PCB 钻头铣刀上的应用
伯东 KRI考夫曼霍尔离子源 eH 3000用于玻璃基片清洗
考夫曼射频离子源 RFICP 140 用于镀制 TiN 薄膜
考夫曼平行型离子源RFICP220辅助DCDC混合电路生产
考夫曼射频离子源RFICP380在磁控溅射玻璃镀膜中的应用
伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP220辅助 LED 封装
伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP140辅助镀制OSR膜层
伯东考夫曼射频离子源RFICP220用于修正 CGH基底
伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP140 用于清洗继电器
考夫射频离子源RFICP380辅助溅射沉积制备锂硫电池正极片
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于铁电薄膜研究
Hakuto离子蚀刻机 20IBE-C用于蚀刻 KDP 晶体
Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100用于蚀刻覆铜板
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J用于光学器件精密加工
Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于芯片去层
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物
Hakuto离子蚀刻机10IBE应用于碲镉晶体电学特性研究
考夫曼射频离子源FRICP380辅助溅射镀制 Al2O3薄膜
考夫曼-离子源RFCIP220辅助溅射制备GDF3光学薄膜
KRI RFICP325 离子源已成功应用在塑料光学镜头应用
考夫曼射频离子源RFICP380用于铝表面溅射沉积ZrN薄膜
考夫曼射频离子源 RFICP220 用于溅射沉积硅片金属薄膜
考夫曼射频离子源RFICP380成功用于复合磁控溅射沉积装置
KRI考夫曼射频离子源RFCIP220溅射沉积红外器件介质膜
考夫曼射频离子源RFICP140溅射沉积NSN70隔热膜
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140溅射沉积BCx薄膜
考夫曼射频离子源RFICP380镀制气体传感器WO3薄膜
KRI考夫曼射频离子源RFICP380溅射沉积纳米纯Ti薄膜
KRI考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积制备碳薄膜
上海伯东美国 inTEST 高低温测试机校准服务
上海伯东德国 Pfeiffer EVB 160 真空角阀广泛应用于太阳能光伏企业
上海伯东德国普发氦质谱检漏仪汽车空调冷凝器检漏应用
上海伯东地工普发氦质谱检漏仪在消防器材钢瓶检漏应用
上海伯东氦质谱检漏仪六种常见氦检方法