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涡轮分子泵_旋片真空泵_---质谱检漏仪

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伯东企业（上海）有限公司

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    信息标题   镀膜制品掉膜的主要原因是
    随着科技发展, 市场需求, 对材料表面进行镀膜已经成为一种常见常用工艺. 镀膜是指用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜, 或镀一层金属膜, 目的是改变材料表面的反射和透射特性. 但在市场上, 镀膜制品有的会出现掉膜现状, 其实产生掉膜的原因很多也很复杂. 处理起来很棘手, 可以考虑从以下几个方面排除: 1、表面清洁度 产品
    信息标题   射频离子源 RFICP 380成功用于辅助蒸镀TiO2薄膜
    氧化钛(tio2)是一种具有多元晶格结构的光学镀膜材料, 氧化钛在550nm处的折射率可在2.2～2.7之间变化, 是一种-的高折射率材料. 因此, 氧化钛(tio2)是光学镀膜材料中---的材料之一. 离子源助镀镀膜可---膜层致密性、增加折射率、反射率, 提升产品性能指标. 某国内光学镀膜制造商为了制备 tio2 薄
    信息标题   伯东射频离子源和分子泵组用于氧化物溅射镀膜设备
    在现代光学薄膜制备技术中, 离子束溅射因其污染少, 成膜条件易于控制, 离子束能量与束流可以调节, 有利于获得高质量的薄膜等优点, 而被广泛应用于镀膜 理想的光学薄膜应该具有光学和化学性质稳定, 无散射和吸收, 机械性能强等特征, 而离子束溅射技术适用于这些要求. 离子束溅射镀膜设备包含两个重要---, 一.用于提供离子
    信息标题   KRI 射频离子源在光学加工中具有高的去除率和好的稳定性
    离子束抛光技术已经成为光学表面超精加工中常用的---一道工序, 原子量级的材料去除使得离子束抛光加工具有纳米、亚纳米级别的加工精度. 离子束抛光系统中的---部件是离子源, 离子源的性能直接决定了该离子束机床的修形能力. 去除函数, 是光学面形确定性加工的基础, 去除函数指的是单位时间内材料去除量在空间上的分布函数, 反应材料的去除速率. 影
    信息标题   美国 KRI 离子源用于辅助沉积非晶硅红外光学薄膜
    硅在常温下性质稳定、红外透明区宽、透明度好, 所形成的的硅薄膜质硬、红外区折射率高, 是一种较为理想的红外光学薄膜材料, 非晶硅作为一种高折射率材料, 因此非晶硅薄膜广泛运用于红外和激光技术中. 而影响非晶薄膜光学的主要工艺因素是沉积速率和基底温度, 其次工作真空度的影响, 当沉积速率和基底温度升高时, 薄膜的折射---增大后减小, 当工作真
    信息标题   考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高性能红外增透膜
    在红外光学系统中, 由于常用的锗硅等材料折射率高, 反射损失大, 因此对红外光学元件表面镀增透膜是一项常规性的工作. 通常使用环境-, 对元件除要求有较高的光学性能外, 还希望具有较好的耐环境的能力, 以适应环境变化, 保持系统的光机性能稳定. 传统蒸发技术的缺陷: 在传统的蒸发技术中, 凝聚粒子的能力低, 热蒸发薄膜的堆积密度较低,
    信息标题   KRI 霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜
    随着人们对空间应用的望远镜和相机的光学系统中使用的反射镜性能提出了更高的要求, 在满足轻量化要求的同时, 还要求反射镜材料具有可以在---环境下长时间工作的物理特性, 这就提出了低密度 / 高硬度 / 高弹性模量 / 高比刚度 / 低热膨胀吸收 / 均匀线膨胀系数等---的参数标准. 反射镜的反射率取决于表面的粗糙度, 因此, 为了解决反应烧
    信息标题   伯东 KRI 考夫曼射频离子源在 PCB 钻头铣刀上的应用
    电子工业的飞速发展对线路板制造业的要求越来越高, 线路板层数越来越高, 孔密越来越大并向微孔化不断发展, 某国内制造商为了铣刀进行铣边及成型加工时, 减少产品的披锋、毛刺及铣刀断刀, 采用伯东 kri 考夫曼---型射频离子源 rficp 380辅助钻头铣刀上镀膜. 该制造商的真空离子镀膜技术, 利用 kri 考夫曼---型射频离子源 rf
    信息标题   伯东 KRI考夫曼霍尔离子源 eH 3000用于玻璃基片清洗
    无论是何种膜系结构, 玻璃基片表面的清洁程度和表面状态将直接影响所镀膜层的质量, 如薄膜的附着力/ 粗糙度以及薄膜的物理性能与机械强度. 但在放置和传输过程中会对玻璃基片表面难以避免地出现不明污染物, 失去 "新鲜表面" 形成钝化层, 甚至可视痕迹. 对于低辐射玻璃而言, 在瑕疵处生长的银膜会在后续钢化及热弯过程中形成团聚, 导致透光性能与低
    信息标题   考夫曼射频离子源 RFICP 140 用于镀制 TiN 薄膜
    传统磁控溅射制备工艺存在一个---的问题, 当离子能量较低时,在溅射沉积过程中会发生 “遮蔽效应”, 会使薄膜结构疏松, 产生孔隙等缺陷, 这直接影响着薄膜的性能. 为提高制备薄膜的致密度, 减少结构缺陷, 提高耐蚀性能, 国内某光学薄膜制造商采用伯东 kri 考夫曼---型射频离子源 rficp 140 用于磁控溅射镀制 tin 薄膜.
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